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2024-01-10
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有下列優(yōu)點(diǎn):(1)薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進(jìn)行控制...
2024-01-10
離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級(jí)也較高...
2024-01-10
光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。其常用的鍍膜法主要是真空鍍膜。光學(xué)薄膜需在高真空度的鍍膜腔體中實(shí)現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝...